电子特气与化学品供应商台特化17日公布2024年自结获利，受惠半导体产品出货动能强劲，推升去年税后净利达3.85亿元新台币，创下历史新高，EPS则来到2.74元新台币，董事会通过拟配发现金股利2元新台币。
台特化去年第四季税后净利1.29亿元新台币，季增29.5%，EPS 0.9元新台币；累计全年营收8.73亿元新台币，年增57.89％，税后净利为3.85亿元新台币，大幅成长147％，改写新高纪录，EPS达2.74元新台币。另外，台特化董事会通过股利分派案，宣布每股将发放2元新台币现金股利。
展望后市，台特化认为，随AI及高效能运算（HPC）带动半导体需求增加，先进制程中薄膜沉积制程随着线径微缩，应用等级从过往甲硅烷朝乙硅烷迈进，在晶圆上将可做更多蚀刻电路，符合2纳米下的应用，预计未来乙硅烷将快速成长。
台特化看好今年成长动能，新开发的无水氟化氢（AHF），为先进半导体制程中非常重要的干式蚀刻与清洁特气原料，主要应用于晶圆沉积薄膜蚀刻与机台设备内硅类残留晶体的清洁移除，已送样客户认证，今年将开始出货，第一季可望贡献营收，并呈现逐季成长；乙硅烷也将随下游半导体先进制程需求增加、高阶记忆体客户需求回升等因素带动出货成长，烘托营运添力推进。
此前在台特化法说上，公司大股东中美晶董事长徐秀兰就表示，看好今年台特化营运表现，且营收以先进制程的比重较高；同时，台特化也持续开发先进制程的新产品，AHF及乙硅烷等相关产品都将放量成长，可望带动台特化业绩持续成长。
台特化为半导体特种气体及半导体特用化学材料的专业厂商，主产品乙硅烷主要应用于化学气相沉积（CVD）制程，为半导体产业进入先进制程时代的关键性材料。
