4月16日，法国液化空气集团（Air Liquide）宣布将在日本广岛投资约2亿欧元，建设两座最先进的工业气体生产设施，以支持一家全球领先的半导体制造商的产能扩张。
据公司披露，该设施预计将于2028年底投入运营，主要生产超纯氮气、氧气和氩气，这些气体是制造尖端芯片不可或缺的关键材料。
液化空气集团表示，此项投资基于与客户的长期合作协议。超纯工业气体在半导体制造过程中用于确保生产环境的洁净度和可靠性，满足该行业最严格的质量标准。通过扩大在日本的业务布局，该集团意在强化日本在全球半导体供应链中的贡献，以应对不断增长的市场需求。
据公司披露，液化空气集团在日本半导体行业的供应历史已超过40年，目前在日本拥有78个电子业务相关设施。
液化空气集团副总裁、负责监督亚太地区业务的Ronnie Chalmers表示："这项新设施体现了液化空气集团紧跟半导体客户快速扩张步伐的能力，支持他们开发驱动人工智能等技术的下一代芯片的新投资。日本自上世纪80年代以来一直是半导体行业的强国，至今仍是全球技术领导者。在整个日本，我们的专家提供高科技解决方案，以满足客户在质量、安全和可靠性方面最严格的标准。"
据公司介绍，液化空气集团自1907年进入日本市场，至今已有超过100年的历史，目前在日本拥有约2000名高技能员工。通过将尖端工业解决方案与长期客户关系相结合，该集团正助力领先的半导体制造商加速产能扩张，从而成为AI革命的关键推动者之一。
